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自己整合

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自己整合（じこせいごう、英: Self-alignment）とは、例えば半導体等の集積回路作製プロセスにおいて、既に形成されたパターンを次のプロセスのマスクとして利用し、マスクの位置合わせ無しで次のプロセスを進めることである[1]。 また、最初のパターンあるいは形状が最終的な素子のパターンあるいは形状を決定する場合も自己整合と呼ぶ。 自己組織化 (Self-assembly) とは異なる。

関連項目

脚注・参照


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